А. Е. Городецкий, В. Л. Буховец, А. В. Маркин, Р. Х. Залавутдинов, А. П. Захаров, Т. В. Рыбкина, С. И. Позин, В. А. Кабанова, О. Ю. Графов, Е. Е. Мухин, А. Г. Раздобарин, “Влияние экспозиции в высокочастотном разряде в смеси Н$_2$–Ne на топографию поверхности и светопропускание сапфира”, ЖТФ, 2025, том 95, выпуск 11,страницы 2113

Плазма

Влияние экспозиции в высокочастотном разряде в смеси Н$_2$–Ne на топографию поверхности и светопропускание сапфира

А. Е. Городецкий^a, В. Л. Буховец^a, А. В. Маркин^a, Р. Х. Залавутдинов^a, А. П. Захаров^a, Т. В. Рыбкина^a, С. И. Позин^a, В. А. Кабанова^a, О. Ю. Графов^a, Е. Е. Мухин^b, А. Г. Раздобарин^b

^a Институт физической химии и электрохимии им. А. Н. Фрумкина РАН, 119071 Москва, Россия
^b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Исследованы три варианта воздействия разряда на топографию поверхности и стабильность светопропускания сапфирового окна. Рассмотрено влияние длительного воздействия чистящего разряда в смеси 77% H$_2$–23% Ne на поверхностность. Проанализированы изменения в структуре поверхностных слоев сапфира, сформированных при длительной экспозиции в высокочастотном (ВЧ) разряде, после удаления в плазме ВЧ разряда тонких пленок. Исследованы изменения в структуре поверхностных слоев сапфира после трехкратного осаждения и последующего удаления плазмой ВЧ разряда пленок Al.

Ключевые слова: $r$-сапфир, защитное окно, АСМ изображения поверхности, пленки Al, очистка, термоядерный экспериментальный реактор.

Поступила в редакцию: 20.02.2025
Исправленный вариант: 22.04.2025
Принята в печать: 24.04.2025

DOI: 10.61011/JTF.2025.11.61594.24-25