RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2013, том 83, выпуск 11, страницы 92–99 (Mi jtf8619)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Оптика

Исследование оптических и структурных свойств оксидных пленок на InP методом спектральной эллипсометрии

В. А. Швецab, С. В. Рыхлицкийab, И. Я. Миттоваc, Е. В. Томинаc

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет, 630090 Новосибирск, Россия
c Воронежский государственный университет

Аннотация: Методом спектральной эллипсометрии исследованы оптические свойства оксидных пленок, выращенных на InP различными способами. Проанализированы методические подходы и приемы для интерпретации результатов эллипсометрических измерений. Показано, что пленки, полученные оксидированием структур с магнетронно нанесенным хемостимулятором, имеют слабое поглощение, нормальный ход дисперсии показателя преломления и резкие границы раздела. В отличие от этого для пленок, полученных оксидированием InP с активными центрами, созданными электровзрывом ванадиевой проволоки, или нанесением хемостимулятора из золя или геля, наблюдаются сильные полосы поглощения во всем спектральном диапазоне и значительное размытие оптических свойств в интерфейсной области. Установлены пределы применимости экспресс-диагностики толщины исследуемых пленок, основанной на измерениях с помощью лазерного одноволнового эллипсометра.

Поступила в редакцию: 22.06.2012


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2013, 58:11, 1638–1645

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026