XXIX Cимпозиум "Нанофизика и наноэлектроника", Нижний Новгород 10-14 марта 2025 г.
Физические приборы и методы эксперимента

Восстановление оптических констант тонких пленок в ЭУФ диапазоне по данным лабораторной рефлектометрии

Н. В. Загайнов, С. А. Гарахин, С. С. Морозов, В. Н. Полковников, Н. И. Чхало

Институт физики микроструктур РАН, 603087 Нижний Новгород, Россия

Аннотация: Изучена возможность использования лабораторных методов рефлектометрии для измерения оптических констант материалов в экстремальном ультрафиолетовом (ЭУФ) диапазоне. Анализ проведен на основе соединений тантала, являющегося поглотителем в заготовках для масок. Численно смоделирован эксперимент по измерению коэффициента отражения в зависимости от длины волны и угла падения для слоев поглотителя литографической маски. В рамках модели учтены реальные характеристики лабораторных приборов, а также погрешности измерения. Численный эксперимент показал перспективность применения лабораторной рефлектометрии к определению параметров тонких пленок на подложках, а эксперимент подтверждает применимость метода для решения реальных задач. Такие параметры структуры, как плотности, шероховатости и толщины восстанавливаются с высокой степенью точности. Отклонения полученных во всех реализациях значений от модельных значительно меньше 1%, эксперимент показал хорошую точность по восстановлению оптических констант.

Ключевые слова: тонкие пленки, рефлектометрия, оптические константы, тантал, поглощение, дифрактометр, рефлектометр, коэффициент отражения, рентгеновское излучение, рентгеновская литография.

Поступила в редакцию: 29.05.2025
Исправленный вариант: 29.05.2025
Принята в печать: 29.05.2025

DOI: 10.61011/JTF.2025.10.61348.120-25

Реферативные базы данных:

•