XXIX Cимпозиум "Нанофизика и наноэлектроника", Нижний Новгород 10-14 марта 2025 г.
Физическая электроника

Послойный химический и фазовый анализ ультратонких пленок нитрида ниобия

О. И. Лубенченко, А. В. Лубенченко, Д. С. Лукьянцев, Д. А. Иванов, И. В. Иванова, О. Н. Павлов

Национальный исследовательский университет «Московский энергетический институт», 111250 Москва, Россия

Аннотация: Исследованы различные ультратонкие пленки нитрида ниобия, отличающиеся по типу подложки, наличию буферного слоя, времени и скорости окисления поверхности, воздействию ионных пучков. Послойный анализ ультратонких пленок нитрида ниобия проведен методом неразрушающего количественного послойного химического и фазового анализа на основе рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. Исследование показало, что при атмосферном окислении ультратонкой пленки нитрида ниобия под оксидным слоем образуется слой с измененной фазой нитрида ниобия; при нанесении ультратонкой пленки нитрида ниобия на окисленную кремниевую подложку методом магнетронного напыления образуется интерфейсный слой толщиной около 1 nm; интерфейсный слой не образуется при нанесении ультратонкой пленки нитрида ниобия на сапфировую подложку; толщина и фазовый состав оксидного слоя зависят от времени и скорости окисления пленки нитрида ниобия; под воздействием распыления пучками ионов происходит изменение не только толщины, но и фазового состава пленки NbN.

Ключевые слова: нитрид ниобия, ультратонкие пленки, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия, послойный химический фазовый анализ.

Поступила в редакцию: 25.04.2025
Исправленный вариант: 25.04.2025
Принята в печать: 25.04.2025

DOI: 10.61011/JTF.2025.10.61345.66-25

Реферативные базы данных:

•