RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2013, том 83, выпуск 6, страницы 51–59 (Mi jtf8456)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

Физическая электроника

Новые процессы в поверхностной ионизации

М. В. Кнатько, М. Н. Лапушкин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Приведены результаты исследований процессов, включающих поверхностную ионизацию. Обнаружено, что эти процессы не укладываются в классическую теорию поверхностной ионизации. Среди них процессы, включающие диффузионный обмен частицами между адсорбированным слоем и объемом эмиттера, каталитические процессы на поверхности эмиттера с участием отдельных центров, а также процессы, протекающие в адсорбированных слоях под действием освещения, электронного облучения и электрических полей. Рассмотрены результаты исследований поверхностной ионизации атомов щелочных металлов и органических молекул на поверхности интерметаллида золота (Na$_x$Au$_y$), существенно расширяющие представления о явлении.

Поступила в редакцию: 31.10.2012


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2013, 58:6, 827–835

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026