RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2013, том 83, выпуск 6, страницы 17–22 (Mi jtf8450)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Физическая электроника

Адсорбция золота на окисленном вольфраме

Е. Ю. Афанасьева

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Методом термодесорбционной спектрометрии изучена кинетика адсорбции и десорбции атомов золота с поверхности тонкой ($<$ 2 nm) пленки окислов, выращенной на текстурированной W-ленте с преимущественным выходом грани (100), в широком диапазоне покрытий. В термодесорбционных спектрах атомов Au с окисленного W наблюдается одна фаза десорбции. Энергия активации десорбции атомов Au с окислов вольфрама меньше теплоты сублимации золота и при концентрации атомов адсорбата на поверхности, соответствующей степени покрытия $\theta_s$ = 2.38, она составляет $E$ = 3.1 eV. Пленка золота на окисленном вольфраме при комнатной температуре растет в виде трехмерных островков. Коэффициент прилипания атомов золота при $T$ = 300 K близок к единице в диапазоне степени покрытия 0.5 $<\theta_s<$ 2.5.

Поступила в редакцию: 31.10.2012


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2013, 58:6, 793–798

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026