RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2013, том 83, выпуск 4, страницы 92–98 (Mi jtf8409)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физика низкоразмерных структур

Наноморфологические характеристики поверхности кристаллов кремния (100) при СВЧ-плазменной обработке в условиях слабой адсорбции

В. Я. Шаныгин, Р. К. Яфаров

Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН

Аннотация: Исследованы закономерности влияния режимов и химического состава высокоионизованной плазмы электронного циклотронного резонанса (ЭЦР) СВЧ газового разряда низкого давления на наноморфологию поверхности монокристаллов кремния кристаллографической ориентации (100). Рассмотрены модельные механизмы процессов, обеспечивающих управление основными характеристическими параметрами наноморфологии кристаллов кремния при низкоэнергетичной СВЧ плазменной обработке в условиях слабой адсорбции с использованием химически активной и инертной газовых сред.

Поступила в редакцию: 02.03.2012
Принята в печать: 20.07.2012


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2013, 58:4, 557–562

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026