RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2013, том 83, выпуск 4, страницы 41–46 (Mi jtf8403)

Эта публикация цитируется в 9 статьях

Плазма

Исследование особенностей формирования внеэлектродной плазмы высоковольтным газовым разрядом

В. А. Колпаковab, А. И. Колпаковa, В. В. Подлипновab

a Самарский государственный аэрокосмический университет (национальный исследовательский университет), 443086 Самара, Россия
b Институт систем обработки изображений РАН, 443001 Самара, Россия

Аннотация: Исследованы особенности формирования внеэлектродной плазмы высоковольтным газовым разрядом. Теоретически и экспериментально подтверждено возникновение и самоподдержание высоковольтного газового разряда и формируемых им потоков плазмы на прямолинейных участках силовых линий электрического поля. Показано, что фокусировка газового разряда и формируемых им плазменных потоков обеспечивается увеличением длины прямолинейного участка силовой линии в направлении оси симметрии отверстия в аноде. Установлено, что с повышением мощности разряда (ускоряющего напряжения, подаваемого на электроды газоразрядного прибора) происходит увеличение длины прямолинейных участков силовых линий поля и их сосредоточение в области оси симметрии отверстия в аноде. Даны практические рекомендации по применению внеэлектродной плазмы для микро- и наноразмерного структурирования поверхности материалов.

Поступила в редакцию: 21.03.2012
Принята в печать: 06.08.2012


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2013, 58:4, 505–510

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026