Аннотация:
Исследованы особенности формирования внеэлектродной плазмы высоковольтным газовым разрядом. Теоретически и экспериментально подтверждено возникновение и самоподдержание высоковольтного газового разряда и формируемых им потоков плазмы на прямолинейных участках силовых линий электрического поля. Показано, что фокусировка газового разряда и формируемых им плазменных потоков обеспечивается увеличением длины прямолинейного участка силовой линии в направлении оси симметрии отверстия в аноде. Установлено, что с повышением мощности разряда (ускоряющего напряжения, подаваемого на электроды газоразрядного прибора) происходит увеличение длины прямолинейных участков силовых линий поля и их сосредоточение в области оси симметрии отверстия в аноде. Даны практические рекомендации по применению внеэлектродной плазмы для микро- и наноразмерного структурирования поверхности материалов.
Поступила в редакцию: 21.03.2012 Принята в печать: 06.08.2012