RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2013, том 83, выпуск 2, страницы 97–102 (Mi jtf8358)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Твердотельная электроника

Синтез углеродных пленок в плазмохимическом реакторе на базе пучково-плазменного разряда

Е. Г. Шустин, Н. В. Исаев, И. Л. Клыков, В. В. Песков, В. И. Поляков, А. И. Руковишников, М. П. Темирязева

Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН

Аннотация: Разработана модификация плазмохимического реактора на основе пучково-плазменного разряда для осаждения углеродных, в том числе алмазоподобных (DLC) пленок, отличающаяся от известных методов простотой управления энергетическими характеристиками ионного потока, воздействующего на пленку в процессе осаждения. Описана техника компьютерного моделирования характеристик ионного потока на электроизолированную поверхность в режиме модуляции потенциала плазмы, позволяющая прогнозировать энергию и поток ионов, воздействующих на осаждаемую пленку. Получены образцы DLC-пленок на металлических подложках. Методом зарядовой релаксационной спектроскопии выявлен эффект влияния адсорбированных паров воды и спирта на электрофизические свойства пленок, что свидетельствует о возможности использования полученных пленок в качестве активного адсорбирующего материала для химических сенсоров.

Поступила в редакцию: 28.02.2012


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2013, 58:2, 245–250

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026