Эта публикация цитируется в 4 статьях

Плазма

Влияние радиального профиля обратного плазменного тока на динамику резистивной шланговой неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в плотной газоплазменной среде

А. С. Мануйлов<sup>ab

a</sup> Санкт-Петербургский государственный университет, математико-механический факультет
^b Научно-исследовательский институт математики и механики им. акад. В. И. Смирнова Санкт-Петербургского государственного университета

Аннотация: Исследована задача о влиянии обратного плазменного тока с характерным радиусом, отличным от соответствующего радиуса плотности тока релятивистского электронного пучка, на динамику резистивной шланговой неустойчивости пучка. Для указанного случая получены уравнения для линейной стадии развития неустойчивости. Показано, что в случае более широкого в радиальном направлении (по сравнению с пучком) обратного плазменного тока имеет место заметное ослабление резистивной шланговой неустойчивости.

Поступила в редакцию: 03.05.2012

 Англоязычная версия: Technical Physics, 2013, 58:1, 76–79

Реферативные базы данных:

•