XXIX Cимпозиум "Нанофизика и наноэлектроника", Нижний Новгород 10-14 марта 2025 г.
Физика низкоразмерных структур

Многослойные структуры NiMo/C, изготовленные методом реактивного магнетронного распыления

К. В. Дуров, А. Д. Ахсахалян, И. В. Малышев, В. Н. Полковников, Н. И. Чхало

Институт физики микроструктур РАН – филиал Федерального исследовательского центра Институт прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова РАН, 603950 Нижний Новгород, Россия

Аннотация: Исследованы характеристики многослойной системы NiMo/C, перспективной для зеркал гебелевского типа. Синтезировались структуры методом реактивного магнетронного распыления в аргоне с импульсной подачей азота, процентное содержание которого в камере равнялось 15% и 30% от общего давления рабочего газа. Изучалось влияние отжига при максимальных температурах 250$^\circ$C и 320$^\circ$C на отражательные и структурные свойства многослойных структур NiMo/C. По результатам малоугловой рентгеновской рефлектометрии на длине волны 0.154 nm были определены структурные параметры NiMo/C. Показано, что величины переходных областей на слоях C и NiMo находятся в пределах 4–7 $\mathring{\mathrm{A}}$ и, в общем, после отжига имеют тенденцию к снижению, либо небольшим флуктуациям. После отжига образцы NiMo/C, синтезированные при доле азота 15%, имели коэффициенты отражения в первом порядке 78.8%–76.1% для периодов 41.5–33.5 $\mathring{\mathrm{A}}$ соответственно. Для структур, синтезированных с 30% содержанием азота, коэффициент отражения составил 81.4%–77.4%.

Ключевые слова: многослойные рентгеновские зеркала, реактивное магнетронное распыление, гебелевские зеркала. XXIX Симпозиум “Нанофизика и наноэлектроника”, Нижний Новгород, 10–14 марта 2025 г. XXIX Симпозиум “Нанофизика и наноэлектроника”, Нижний Новгород, 10–14 марта 2025 г.

Поступила в редакцию: 29.05.2025
Исправленный вариант: 29.05.2025
Принята в печать: 29.05.2025

Реферативные базы данных:

•