RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2015, том 85, выпуск 10, страницы 105–110 (Mi jtf7913)

Эта публикация цитируется в 24 статьях

Физика низкоразмерных структур

Радиационная стойкость высокоэнтропийных наноструктурированных покрытий (Ti, Hf, Zr, V, Nb)N

Ф. Ф. Комаровa, А. Д. Погребнякb, С. В. Константиновa

a Институт прикладных физических проблем им. А. Н. Севченко Белорусского государственного университета, 220045 Минск, Белоруссия
b Сумской государственный университет, 40007 Сумы, Украина

Аннотация: Впервые исследовано влияние высокофлюенсного ионного облучения наноструктурированных покрытий на базе высокоэнтропийного соединения (Ti, Hf, Zr, V, Nb)N. Облучение проводилось ионами гелия с энергией 500 keV в диапазоне флюенсов 5 $\cdot$ 10$^{16}$–3 $\cdot$ 10$^{17}$ ions/cm$^2$. Для моделирования процессов эксплуатации в ядерном реакторе проведен термический отжиг покрытий после ионного облучения при температуре 773 K в течение 15 min. Исследованы элементный состав, структура, морфология, а также прочностные свойства покрытий (Ti, Hf, Zr, V, Nb)N до и после облучения. По результатам исследований не выявлено существенных структурных или фазовых изменений покрытий после облучения, кроме сильного дробления кристаллитов покрытий до величиы менее 10 nm. Также не выявлено изменений в атомном составе покрытий. Установлено нелинейное влияние флюенса облучения на твердость покрытий. По результатам исследований можно утверждать, что наноструктурированные покрытия (Ti, Hf, Zr, V, Nb)N являются радиационно-стойкими и перспективны в качестве покрытий оболочек ТВЭЛ ядерных реакторов.

Поступила в редакцию: 26.02.2015


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2015, 60:10, 1519–1524

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026