М. В. Ерофеев, Е. Х. Бакшт, А. Г. Бураченко, В. Ф. Тарасенко, “Условия равномерного воздействия на анод плазмы импульсного диффузного разряда, формируемого за счет убегающих электронов”, ЖТФ, 2015, том 85, выпуск 9,страницы 56

Эта публикация цитируется в 8 статьях

Плазма

Условия равномерного воздействия на анод плазмы импульсного диффузного разряда, формируемого за счет убегающих электронов

М. В. Ерофеев^ab, Е. Х. Бакшт^a, А. Г. Бураченко^a, В. Ф. Тарасенко^ab

^a Институт сильноточной электроники СО РАН, 634055 Томск, Россия
^b Национальный исследовательский Томский политехнический университет, 634050 Томск, Россия

Аннотация: Исследована пространственная структура объемного (диффузного) разряда в сильно неоднородном электрическом поле при наносекундных длительностях импульсов напряжения и атмосферном давлении воздуха, а также воздействие плазмы данного разряда на поверхность плоского алюминиевого анода. Показано, что диффузный разряд при наносекундной длительности импульса напряжения генератора позволяет в воздухе атмосферного давления проводить однородную обработку поверхности анода в отличие от искрового разряда, приводящего к ухудшению рельефа поверхности за счет образования на ней микрократеров и зон с измененными свойствами.

Поступила в редакцию: 29.01.2015