Аннотация:
Пластины монокристаллического $c$-Ge, имплантированные ионами Ag$^+$ энергией $E$ = 30 keV, плотностью тока в ионном пучке $J$ = 5 $\mu$А/cm$^2$ и дозой $D$ = 2.5· 10$^{16}$ ion/cm$^2$, были подвергнуты быстрому термическому отжигу одиночными световыми импульсами различной длительности от 1 до 9.5 s. Методами сканирующей электронной микроскопии и оптического отражения установлено, что в результате ионной имплантации на поверхности подложек $c$-Ge образуется аморфный пористый слой Ag : PGe губчатой структуры, состоящий из нанонитей Ge. Установлено, что отжиг c возрастанием длительности импульсов до 5 s последовательно приводит к увеличению диаметров нанонитей Ge от 26 до 35 nm. При более длительных импульсах наблюдались разрушение пористой структуры Ag : PGe и испарение Ag из имплантированных слоев. На поверхности образца, отожженного при максимальной температуре, наблюдалось образование террас и каплевидных сферических образований германия. Обнаружено влияние длительности быстрого термического отжига на ВАХ отожженных образцов.