RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2022, том 92, выпуск 9, страницы 1440–1448 (Mi jtf7447)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Физическая электроника

Методы исследования и управления микроплазменными процессами при синтезе покрытий

А. И. Мамаев, В. А. Мамаева, Ю. Н. Беспалова

Национальный исследовательский Томский государственный университет, 634050 Томск, Россия

Аннотация: Разработаны физические основы определения потенциалов зажигания и гашения микроплазменных разрядов в растворах. Получены хронопотенциометрические, хроноамперометрические зависимости от условий получения покрытий и зависимости постоянной времени переходного процесса от напряжения и длительности процесса, а также вольт-амперные зависимости при скоростях нарастания и спада напряжения потенциала от 10$^6$ до 10$^8$ V/s. Разработанный способ применим для управления процессом нанесения микроплазменных неметаллических неорганических покрытий и является основой методики in situ контроля нанесения покрытий.

Ключевые слова: импульсное микроплазменное оксидирование, вольт-амперные зависимости, управляемый синтез оксидных покрытий.

Поступила в редакцию: 08.04.2022
Исправленный вариант: 24.05.2022
Принята в печать: 28.05.2022

DOI: 10.21883/JTF.2022.09.52937.90-22



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026