Эта публикация цитируется в 1 статье

XXVI Международный симпозиум " Нанофизика и наноэлектроника" , Н. Новгород, 14-17 марта 2022 г.
Фотоника

Перспективные длины волн для проекционной литографии с использованием синхротронного излучения

Н. И. Чхало, В. Н. Полковников, Н. Н. Салащенко, Р. А. Шапошников

Институт физики микроструктур РАН, 607680 Нижний Новгород, Россия

Аннотация: Обсуждены перспективные длины волн для литографии следующего поколения на базе синхротронного источника рентгеновского излучения. Приведены теоретические и экспериментальные значения коэффициентов отражения многослойных рентгеновских зеркал, обеспечивающих максимальную отражательную способность в диапазоне 11.4–3.1 nm. Проведено сравнение теоретической эффективности многослойной оптики для различных длин волн.

Ключевые слова: рентгеновская литография, многослойная рентгеновская оптика, многослойные рентгеновские зеркала.

Поступила в редакцию: 26.04.2022
Исправленный вариант: 26.04.2022
Принята в печать: 26.04.2022

DOI: 10.21883/JTF.2022.08.52785.102-22

Реферативные базы данных:

•