Твердотельная электроника

Плазмохимическое травление в постростовой технологии фотоэлектрических преобразователей

А. В. Малевская, Ю. М. Задиранов, Н. Д. Ильинская, Д. А. Малевский, П. В. Покровский

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Проведены исследования плазмохимической технологии травления гетероструктур при формировании каскадных фотоэлектрических преобразователей. Рассмотрен этап формирования разделительной мезаструктуры при различных режимах травления и последующего удаления нарушенного слоя методом жидкостной химической обработки гетероструктуры. Проведено исследование влияния методов травления мезы на электрические характеристики элементов. Разработана технология формирования фотоэлектрических преобразователей с низкими значениями токов утечки менее 10$^{-9}$ A при напряжении менее 1 V c высокой стойкостью элементов к деградации.

Ключевые слова: фотоэлектрический преобразователь, гетероструктура, плазмохимическое травление, мезаструктура.

Поступила в редакцию: 28.10.2021
Исправленный вариант: 25.01.2022
Принята в печать: 25.01.2022

DOI: 10.21883/JTF.2022.04.52248.282-21

Реферативные базы данных:

•