Физическая электроника

Вероятность ионизации атомов, распыленных при бомбардировке поверхности металлов одно- и многозарядными ионами

С. Ф. Белых^a, А. Д. Беккерман<sup>b

a</sup> Московский авиационный институт (национальный исследовательский университет), 125993 Москва, Россия
^b Schulich Faculty of Chemistry, Technion — Israel Institute of Technology, 32000 Haifa, Israel

Аннотация: Исследованы процессы ионизации атомов, распыленных при бомбардировке чистой поверхности металлов одно- и многозарядными ионами с одинаковой кинетической энергией порядка нескольких keV. В рамках феноменологической модели образования атомных ионов, учитывающей релаксацию локального возбуждения электронов в металле, получены аналитические формулы для расчета вероятности ионизации распыленных атомов. Показано, что по сравнению с однозарядными ионами бомбардировка металла многозарядными ионами приводит к существенному росту вероятности ионизации распыленных атомов за счет более эффективного возбуждения электронов и увеличения времени релаксации этого возбуждения.

Ключевые слова: ионное распыление, вероятность ионизации, многозарядные ионы, распыленные атомы, оже-электроны, каскады столкновений, масс-спектрометрия вторичных ионов.

Поступила в редакцию: 17.07.2021
Исправленный вариант: 27.09.2021
Принята в печать: 12.10.2021

DOI: 10.21883/jtf.2022.02.52023.218-21

Реферативные базы данных:

•