Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физическое материаловедение

Сравнительное исследование термостойкости пелликлов на основе бериллия

С. Ю. Зуев, А. Я. Лопатин, В. И. Лучин, Н. Н. Салащенко, Д. А. Татарский, Н. Н. Цыбин, Н. И. Чхало

Институт физики микроструктур РАН, 603950 Нижний Новгород, Россия

Аннотация: Продемонстрирована возможность создания Be-содержащих сверхтонких пленок с высоким пропусканием на длинах волн 11.4 и 13.5 nm. Для свободновисящих пленок Be и Be-содержащих многослойных структур (Si/Be, ZrSi$_2$/Be, Be/Be$_x$N$_y$, Zr/Be, Ru/Be, Mo/Be) определены пороги по поглощенной мощности, при которых в процессе вакуумного отжига через непродолжительное время (десятки минут) в изначально ненатянутых пленочных образцах начинает визуально наблюдаться натяжение. Наиболее высокий порог по поглощенной мощности (1 W/cm$^2$) продемонстрировала многослойная Be/Be$_x$N$_y$-структура (с прослойками из азотированного бериллия). Однако вследствие меньшей прочности этой структуры более перспективными с точки зрения создания полномасштабного пленочного экрана (пелликла) являются пленки ZrSi$_2$/Be, Mo/Be и Be. Длительный вакуумный отжиг ультратонких пленок Mo/Be и Be показал, что они могут выдерживать 24 h вакуумного нагрева при плотности поглощенной мощности 0.2 W/cm$^2$ без заметных изменений в пропускании на рабочих длинах волн и в натяжении. При сравнимых коэффициентах пропускания ($\sim$83% на длине волны 13.5 nm и $\sim$88% на длине волны 11.4 nm) многослойная Mo/Be-структура толщиной 30 nm выглядит более предпочтительной, демонстрируя большую прочность по сравнению с однородной Be-пленкой толщиной 50 nm.

Ключевые слова: бериллийсодержащие свободновисящие пленки, экстремальная ультрафиолетовая литография, термостойкость.

Поступила в редакцию: 28.06.2021
Исправленный вариант: 26.08.2021
Принята в печать: 31.08.2021

DOI: 10.21883/JTF.2022.01.51857.197-21

Реферативные базы данных:

•