XXVII Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'' Н. Новгород, 13-16 марта, 2023 г.
Фотоника

Проект рентгенооптической схемы литографа с динамической маской пропускающего типа и синхротронным источником излучения

И. В. Малышев^a, Н. И. Чхало^a, С. Н. Якунин<sup>bc

a</sup> Институт физики микроструктур РАН, 607680 Нижний Новгород, Россия
^b Научно-исследовательский центр Курчатовский институт, 123182 Москва, Россия
^c Институт кристаллографии им. А. В. Шубникова РАН, 119333 Москва, Россия

Аннотация: Предложена рентгенооптическая схема литографа с динамической маской пропускающего типа и синхротронным источником излучения. Изображение динамической маски в виде отверстий малого диаметра с уменьшением переносится на пластину с резистом с помощью проекционного объектива Шварцшильда. Формирование топологического рисунка планируется проводить за счет согласованной работы системы сканирования пластины с резистом и микроэлектромеханической системы пропускающего типа. Рассмотрены объективы с уменьшением 10 и 20 крат для получения 10-20 nm изображений 200 nm отверстий динамической маски. Рассчитана схема засветки маски, обеспечивающая однородную засветку на поле 10 $\times$ 10 mm$^2$. Для синхротрона Сибирь-2 КИСИ на поворотном магните ожидаемая производительность литографа составит до 1/14 пластины диаметром 100 mm в h.

Ключевые слова: рентгеновская литография, рентгеновская оптика, многослойное зеркало, синхротронное излучение, аберрации.

Поступила в редакцию: 03.05.2023
Исправленный вариант: 03.05.2023
Принята в печать: 03.05.2023

DOI: 10.21883/JTF.2023.07.55757.111-23

Реферативные базы данных:

•