Эта публикация цитируется в 1 статье

Физическая электроника

Влияние способа подачи газов в камеру на процессы реактивного магнетронного распыления Ti–Al составной мишени

Х. Т. Доан^a, Д. А. Голосов^a, Дж. Джанг^b, Н. А. Кананович^c, С. М. Завадский^a, С. Н. Мельников<sup>a

a</sup> Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, 220013 Минск, Беларусь
^b Ведущая лаборатория провинции Шэньси в области технологии тонких пленок и оптических исследований, Школа оптоэлектронного инжиниринга, Сианьский политехнический университет, 710021 Сиань, Китай
^c Физико-технический институт НАН Беларуси, 220084 Минск, Беларусь

Аннотация: Представлены результаты исследования процессов реактивного магнетронного распыления Ti–Al составной мишени в Ar/O$_2$ смеси газов при различных способах подачи газов в камеру. Установлено, что независимо от способа подачи газов при изменении концентрации кислорода в Ar/O$_2$ смеси газов происходит изменение соотношения содержания Al и Ti в нанесенных пленках Ti$_{1-x}$Al$_x$O$_y$. На основе исследований диэлектрических характеристик нанесенных пленок Ti$_{1-x}$Al$_x$O$_y$ установлено, что при раздельной газоподаче (Ar подается в область мишени, O$_2$ подается в область подложки) в отличие от совместной газоподачи (смесь Ar/O$_2$ рабочих газов подается в область мишени) возможно нанесение диэлектрических пленок в переходном режиме при сравнительно высоких скоростях распыления. При этом подача кислорода в область подложки позволяет увеличить содержание кислорода в пленках до 60–64 at.%.

Ключевые слова: реактивное магнетронное распыление, составная мишень, тонкие пленки, оксид титана-алюминия, элементный состав, диэлектрическая проницаемость, тангенс угла диэлектрических потерь.

Поступила в редакцию: 30.11.2022
Исправленный вариант: 16.01.2023
Принята в печать: 22.01.2023

DOI: 10.21883/JTF.2023.03.54854.261-22

Реферативные базы данных:

•