Аннотация:
Описан экспериментальный стенд для тестирования чувствительных к экстремальному ультрафиолетовому излучению фоторезистов. Стенд построен на базе лазерно-плазменного источника на основе Nd : YAG-лазера (энергия импульса 0.8 J, длительность импульса 5.2 ns, диаметр пятна фокусировки 66 $\mu$m, пиковая интенсивность до 3 $\cdot$ 10$^{12}$ W/cm$^2$) и газовой струи в качестве мишени, а также зеркального монохроматора (сменное многослойное рентгеновское зеркало, оптимизированное на выбранную длину волны). Стенд оснащен набором зеркал и фильтров для экспонирования образцов на длинах волн 11.2, 13.9 и 30.4 nm. В качестве рабочего газа использованы Kr, Ar и He, ионы которых Kr X, Ar VIII и He II имеют интенсивные эмиссионные полосы в окрестности обозначенных длин волн. Проведено тестирование прибора на образцах фоторезиста, определены форма пятна фокусировки и его размеры, которые составили около 0.5 $\times$ 1.0 mm$^2$.
Полный текст:
PDF файл (432 kB)