КОНДЕНСИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ

Аморфизация кремния под воздействием ультракоротких лазерных импульсов среднего ИК диапазона

Н. И. Буслеев, П. П. Пахольчук, Н. А. Смирнов

Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва

Аннотация: Проведено экспериментальное исследование процесса аморфизации поверхности пластины кристаллического кремния Si(111) толщиной 380 мкм под воздействием ультракоротких лазерных импульсов (длительность – 150 фс) среднего инфракрасного диапазона (4.0–5.4 мкм) с варьируемой плотностью энергии и экспозицией. Для данного спектрального диапазона были измерены пороговые значения поверхностной плотности энергии для аморфизации кремния. Была установлена зависимость объемной доли и толщины аморфной фазы материала от поверхностной плотности энергии и количества импульсов лазерного излучения для длины волны 5000 нм.

Поступила в редакцию: 19.03.2025
Исправленный вариант: 01.04.2025
Принята в печать: 01.04.2025

DOI: 10.31857/S0370274X25050058

 Англоязычная версия: Journal of Experimental and Theoretical Physics Letters, 2025, 121:9, 697–701