RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал экспериментальной и теоретической физики // Архив

Письма в ЖЭТФ, 2025, том 121, выпуск 3, страницы 235–239 (Mi jetpl7438)

КОНДЕНСИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ

Особенности проводимости номинально нелегированного монокристаллического CVD алмаза

М. С. Каганa, С. К. Папроцкийa, Н. А. Хвальковскийa, И. В. Алтуховa, Н. Б. Родионовb, А. П. Большаковc, В. Г. Ральченкоc, Р. А. Хмельницкийbd

a Институт радиотехники и электроники им. В.А.Котельникова РАН, 125009 Москва, Россия
b Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований “ТРИНИТИ”, 142191 Троицк, Москва, Россия
c Институт общей физики им. А.М.Прохорова РАН, 119991 Москва, Россия
d Физический институт им. П.Н.Лебедева РАН, 119333 Москва, Россия

Аннотация: Исследована проводимость пленок номинально нелегированного монокристаллического алмаза, эпитаксиально выращенного методом газофазного химического осаждения (CVD) на сильно легированной бором алмазной $p^+$-подложке. Проводимость пленок определяется акцепторной примесью бора. Температурная зависимость проводимости в интервале температур $300$$500$ К подчиняется активационному закону, однако энергия активации значительно превышает энергию ионизации акцепторов бора $\varepsilon_i = 0.37\,$эВ. Обнаружено, что акцепторы сильно компенсированы. Это приводит к возникновению случайного потенциала большой амплитуды $\gamma\approx 0.2\,$эВ, из-за чего энергия активации сильно возрастает до величины ${\sim}\varepsilon_i +\gamma$. Причина возникновения большого случайного потенциала связывается с самокомпенсацией примесей бора атомами азота в процессе CVD роста алмазных пленок на сильно легированной подложке.

Поступила в редакцию: 12.07.2024
Исправленный вариант: 11.12.2024
Принята в печать: 12.12.2024

DOI: 10.31857/S0370274X25020116


 Англоязычная версия: Journal of Experimental and Theoretical Physics Letters, 2025, 121:3, 220–224


© МИАН, 2026