Аннотация:
Исследована проводимость пленок номинально нелегированного монокристаллического алмаза, эпитаксиально выращенного методом газофазного химического осаждения (CVD) на сильно легированной бором алмазной $p^+$-подложке. Проводимость пленок определяется акцепторной примесью бора. Температурная зависимость проводимости в интервале температур $300$–$500$ К подчиняется активационному закону, однако энергия активации значительно превышает энергию ионизации акцепторов бора $\varepsilon_i = 0.37\,$эВ. Обнаружено, что акцепторы сильно компенсированы. Это приводит к возникновению случайного потенциала большой амплитуды $\gamma\approx 0.2\,$эВ, из-за чего энергия активации сильно возрастает до величины ${\sim}\varepsilon_i +\gamma$. Причина возникновения большого случайного потенциала связывается с самокомпенсацией примесей бора атомами азота в процессе CVD роста алмазных пленок на сильно легированной подложке.
Поступила в редакцию: 12.07.2024 Исправленный вариант: 11.12.2024 Принята в печать: 12.12.2024