RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал экспериментальной и теоретической физики // Архив

Письма в ЖЭТФ, 2020, том 111, выпуск 11, страницы 728–734 (Mi jetpl6181)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

КОНДЕНСИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ

Термическая устойчивость водородных кластеров на поверхности графена и Стоун–Уэльсовского графена

А. И. Подливаев

Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”, 115409 Москва, Россия

Аннотация: В рамках неортогональной модели сильной связи исследовалась возможность создания различных термически устойчивых элементов водородного рисунка на поверхности графена и Стоун–Уэльсовского графена – недавно предсказанного нового аллотропа графена. Численно исследована миграция атома водорода, адсорбированного на эти структуры. Энергия активации миграции атома водорода на поверхности графена ниже аналогичной энергии для Стоун–Уэльсовского графена, и данные величины равны, соответственно, 0.52 и 0.84 эВ. Исследована термическая устойчивость водородных кластеров, имеющих вид 6-и атомных колец на поверхности графена, а также 5, 6 и 7-и атомных колец на поверхности Стоун-Уэльсовского графена. Определены соответствующие энергии активации (они равны 1.61, 1.25, 1.36, и 1.27 эВ), а также частотные факторы термического распада в формуле Аррениуса. Даны оценки времен жизни этих кластеров при температурах замерзания и кипения воды.

Поступила в редакцию: 06.04.2020
Исправленный вариант: 24.04.2020
Принята в печать: 24.04.2020

DOI: 10.31857/S1234567820110026


 Англоязычная версия: Journal of Experimental and Theoretical Physics Letters, 2020, 111:11, 613–618

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026