Влияние щелевых колебаний на терморелаксационные процессы в облученных лазером щелочно-галоидных кристаллах

Л. Л. Буишвили, И. И. Топчян

Институт физики АН Грузии

Аннотация: В рамках теплового механизма взаимодействия лазерного излучения с прозрачными материалами, связанного с разогревом локальных колебаний примесей, исследованы терморелаксационные процессы, протекающие в щелочно-галоидных кристаллах при лазерном облучении. Получены выражения для времени непосредственной релаксации температуры на расстоянии $r$ от примесного центра, обусловленной взаимодействием локальных фононов с кристаллическими, и для времени $\tau_{1}$ релаксации температуры всего кристалла с учетом теплопроводности вещества. Исследована зависимость времени релаксации $\tau_{1}$ от интенсивности лазерного излучения и от микроскопических параметров примесного центра.

УДК: 538.95—405:539.12.04;548:539.12.04

Поступила в редакцию: 24.03.1986

Реферативные базы данных:

•