Аннотация:
С помощью рентгеновских и электрофизических методов, а также просвечивающей электронной микроскопии исследован распад твердого раствора фосфора в сильно легированных методом диффузии слоях кремния при температурах $500{-}700^{\circ}$C Кинетические зависимости изменения относительной деформации, электропроводимости и дефектности диффузионных слоев объясняются образованием выделений типа SiP главным образом из кластеров узельного электронеактивного фосфора. Процесс распада лимитируется ускоренной диффузией фосфора и сопровождается коалесценцией выделений и генерацией дислокационных петель, снимающих напряжения.
Полный текст:
PDF файл (3198 kB)