Аннотация:
Впервые проведено моделирование на ЭВМ термоактивированного движения дислокации через хаотическую сетку локальных дефектов, способных изменять свое физическое состояние. Это изменение может происходить или путем переориентации локальных дефектов в кристаллографических ячейках (дефекты снуковского типа), или на основе изменения структуры дислокационной линии в местах ее взаимодействия с локальными дефектами. Для указанных случаев методом моделирования получены зависимости скорости $v$ движения дислокации от нагрузки $\sigma$ и исследованы их качественные характеристики. Установлено, что последние хорошо согласуются с характеристиками приведенных в литературе экспериментальных зависимостей $v(\sigma)$, измеренных для определенных образцов монокристаллов фтористого лития.
УДК:
548.4
Поступила в редакцию: 19.01.1984 Исправленный вариант: 23.05.1984