Аннотация:
Проведено исследование электропроводности методом вольт-амперных характеристик (ВАХ) тонкопленочных структур Pt/ЦТС/Pt. Обнаружена асимметрия ВАХ, свидетельствующая о различии в величинах потенциальных барьеров на интерфейсах исследуемых структур, которая меняется в зависимости от условий синтеза. Установлено, что ВАХ, представленная в полулогарифмическом масштабе, имеет несколько линейных участков, что свидетельствует о наличии нескольких механизмов проводимости в данной структуре. Выделено два основных механизма проводимости: омический и эмиссия Пула–Френкеля. С ростом температуры проводимость данных структур увеличивается не меняя вид ВАХ.