Аннотация:
Методами сканирующей туннельной микроскопии и дифракции медленных электронов исследована структурная стабильность ступенчатых поверхностей Ni (755) и Ni (771) в диапазоне температур 20–500$^\circ$C, а также при адсорбции кислорода и различных форм углерода. На чистой поверхности Ni (755) наблюдается фазовый переход от структуры с двойными ступенями при комнатной температуре к структуре с одинарными ступенями при температуре выше 350$^\circ$C. Этот переход исчезает после адсорбции кислорода при температуре выше 350$^\circ$C. При этом у Ni (755) стабилизируется структура с одинарными ступенями в отличие от Ni (771), имеющего тенденцию к фасетированию при адсорбции кислорода. Показано, что фуллерены C$_{60}$ при адсорбции на поверхность Ni (755) образуют массив одномерных цепочек на верхних краях ступеней подложки.