Аннотация:
Методом расчетов из первых принципов в рамках теории функционала электронной плотности проведено теоретическое исследование взаимодействия адатомов углерода в зависимости от степени покрытия поверхностей (001) и (111) железа углеродом. Впервые установлено, что последовательное заполнение атомами углерода верхнего слоя поверхности приводит в результате их группового взаимодействия к внедрению части атомов в подповерхностный слой железа, что дает возможность формирования твердого раствора внедрения. Показано, что высокая степень покрытия углеродом поверхности (001) приводит к значительному понижению энергетического барьера для процесса диффузии атома углерода в подповерхностный слой по сравнению с величиной диффузионного барьера для одиночного атома.