Эта публикация цитируется в 4 статьях

Системы низкой размерности

Влияние обработки в плазме (O$_2$,H$_2$) на структуру и физические свойства пленок SnO$_x$

Н. Б. Бейсенханов

Физико-технический институт Министерства образования и науки Казахстана, Алма-Ата, Казахстан

Аннотация: Рассмотрено влияние обработки водородной и кислородной плазмой тлеющего разряда на структурные и оптические свойства пленок SnO$_x$ толщиной 270–350 nm, полученных магнетронным распылением и золь-гель-методом на стеклянной подложке. Показано сегрегирующее и разрушающее воздействие плазмы на структуру кристаллитов и прозрачность пленок, а также на их пористость. Выявлена принципиальная возможность получения посредством обработки в водородной плазме тлеющего разряда кристаллоаморфных наноструктур, в которых качественные нанокристаллы оксидов олова чередуются с кластерами оксидов олова.

Поступила в редакцию: 18.05.2010

 Англоязычная версия: Physics of the Solid State, 2011, 53:2, 390–397

Реферативные базы данных:

•