Аннотация:
Осуществлена электронно-лучевая запись регулярных доменных структур в $Z$-срезах кристаллов LiNbO$_3$ толщиной 0.75 mm стехиометрического и близкого к стехиометрическому составов. Кристаллы выращены методом Чохральского из расплава с избытком Li$_2$O (58.6 mol.%) и из расплава конгруэнтного состава в присутствии 6 wt.% щелочного растворителя (флюса) – K$_2$O. В обоих кристаллах определены пороговые дозы зарядa, необходимые для формирования индивидуальных доменов, и найдены оптимальные условия рисования периодических структур путем последовательных локальных облучений. Доменные решетки похожего типа (периоды 6.5; 7 и 10 $\mu$m) сформированы в обоих типах стехиометрических кристаллов.