Аннотация:
Методом высокоразрешающей рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии изучен ближний порядок в аморфных пленках SiO$_x$ (0 $\le x\le$ 2). Как модель случайных связей, так и модель случайной смеси не описывают экспериментальные фотоэлектронные спектры SiOx ($x\le$ 2). Предложена промежуточная модель строения SiO$_x$. Измеренные фотоэлектронные спектры валентной зоны SiO$_x$ ($x\le$ 2) свидетельствуют о присутствии в них кремниевой фазы и оксида кремния.