Аннотация:
Разными методами исследована структура буферных слоев и осажденных пленок YBa$_2$Cu$_3$O$_x$ (Y123), обладающих высокой критической плотностью тока ($\sim$10$^6$ A/cm$^2$). Обнаружено, что сверхпроводящие пленки и буферные слои обладают мелкодисперсной структурой. Считаем, что эта структура вместе с высокой текстурой пленок Y123 типа (001) ответственны за высокую критическую плотность тока. В буферных слоях обнаружена необычная текстура, которая отличается от текстуры подложек и пленок Y123. В сверхпроводящих пленках, осажденных на буферные слои CeO$_2$, наблюдалась система взаимно перпендикулярных линий, которая в нашем случае представляет собой доменную структуру с частицами Y123 на границах.