Эта публикация цитируется в 12 статьях

Физика поверхности, тонкие пленки

Устойчивость поверхности упругонапряженной многокомпонентной пленки в системе с химическими реакциями

А. В. Редьков^ab, А. В. Осипов^abc, С. А. Кукушкин<sup>abcd

a</sup> Институт проблем машиноведения РАН, г. Санкт-Петербург
^b Санкт-Петербургский академический университет — научно-образовательный центр нанотехнологий РАН (Академический университет)
^c Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
^d Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого

Аннотация: Рассмотрена морфологическая устойчивость плоской упругонапряженной многокомпонентной пленки, растущей при условии лимитирования граничной кинетикой. Показано, что неустойчивость может стать следствием флуктуаций механических напряжений в пленке, которые влияют на времена жизни адсорбентов на поверхности. Найден критерий устойчивости, связывающий сродство химической реакции на поверхности и напряжения в пленке. На основе полученных результатов проведен анализ роста пленки GaN на сапфире. Рассмотрено влияние соотношения потоков компонентов III/V групп на еe морфологию. Показано, что по данному механизму более гладкие пленки получаются при лимитировании роста азотом, тогда как характерная шероховатость, сравнимая с длиной свободного пробега адатомов, развивается при лимитировании галлием.

Поступила в редакцию: 01.06.2015

 Англоязычная версия: Physics of the Solid State, 2015, 57:12, 2524–2531

Реферативные базы данных:

•