Аннотация:
Представлены результаты исследования влияния напряжения смещения $U_b$ и температуры подложки $T_s$ на текстуру пленок FeCo толщиной 180 nm, осажденных магнетронным распылением на постоянном токе на подложки Si/SiO$_2$. Показано, что изменение $U_b$ от -250 до $\sim$ -80 V приводит к росту пленок с текстурой (110). Дальнейшее изменение $U_b$ от -80 до 250 V приводит к росту пленок с текстурой (200). Пленки, выращенные при $U_b$ = 0 и $T_s$ = 60-300$^\circ$С, имеют текстуру (200). Дальнейшее увеличение $T_s$ приводит изменению текстуры пленок на текстуру (110).