Аннотация:
Компьютерным моделированием температурного поля плоского резистивного нагревателя в виде параллельных полос, применяемого для проведения термомиграции жидких зон в пластинах кремния, выявлены два типа локальных неоднородностей градиента температуры. Монотонные радиальные изменения температуры связаны с охлаждением или нагревом периферии пластины, а периодические – с полосами нагревателя. Оба типа неоднородностей подтверждены наблюдаемыми траекториями термомиграции системы зон на основе алюминия. Найдены условия создания однородного поля температурного градиента для применения термомиграции в полупроводниковой технологии.