Механические свойства, физика прочности и пластичность

Эволюция структурных и точечных дефектов в кварцевом стекле, подвергнутом тонкому отжигу

И. П. Щербаков^a, С. Б. Еронько^b, М. Ф. Киреенко^a, Л. В. Тихонова^a, А. Е. Чмель<sup>a

a</sup> Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
^b Государственный оптический институт им. С. И. Вавилова, Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Кварцевое стекло с высоким содержанием групп OH, синтезированное высокотемпературным гидролизом SiCl$_4$, было подвергнуто тонкому отжигу. Сочетанием методов фотолюминесценции и ИК-спектроскопии отслеживалась эволюция ансамбля точечных и структурных дефектов в процессе отжига при температуре 480$^\circ$C. В объеме образцов наблюдалось заметное снижение концентрации дефектов силикатной сетки при экспозициях 24 и 72 h.
На поверхности образцов после термического воздействия отмечено уменьшение концентрации силанольных групп Si–OH, возникших в примененном процессе синтеза. Гибель этих групп приводит к консолидации силикатной сетки, что отразилось в образовании поверхностного уплотненного слоя с повышенной микротвердостью.

Ключевые слова: кварцевое стекло, тонкий отжиг, фотолюминесценция, инфракрасная спектроскопия.

Поступила в редакцию: 22.05.2023
Исправленный вариант: 22.05.2023
Принята в печать: 26.06.2023

DOI: 10.21883/FTT.2023.08.56157.85

Реферативные базы данных:

•