Аннотация:
Показано, что смешанное ионное облучение тонкой пленки NbN до флюенса 8.5 $\cdot$ 10$^{16}$ cm$^{-2}$, меньшего, чем оптимальный (10 $\cdot$ 10$^{16}$ cm$^{-2}$), может быть использовано при создании криогенных интегрированных сопротивлений в том случае, если значения рабочих токов устройства больше, чем все характерные токи переходов для облученных и стабилизированных отжигом пленок. При этом реализуются меньшие значения сопротивления на квадрат, что позволяет создавать меньшие значения номиналов интегрированных сопротивлений. Продемонстрировано, что отжиг облученной пленки при температуре 600$^\circ$C приводит к частичному возврату сверхпроводящих свойств и сопровождается появлением двух сверхпроводящих переходов при плотностях критического тока 0.45 $\cdot$ 10$^6$ A/cm$^2$ и 1 $\cdot$ 10$^6$ A/cm$^2$, что необходимо учитывать при необходимости применения стабилизирующего отжига при повышенной температуре.
Ключевые слова:
тонкие сверхпроводящие пленки NbN, ионное облучение, критические токи сверхпроводящих пленок, влияние облучения на сверхпроводящие свойства пленок NbN.
Поступила в редакцию: 17.04.2023 Исправленный вариант: 17.04.2023 Принята в печать: 11.05.2023