А. А. Фукс, Г. Е. Абросимова, О. И. Аксенов, А. С. Аронин, “Поверхностная кристаллизация аморфных микропроводов состава Fe$_{73.8}$Si$_{13}$B$_{9.1}$Cu$_1$Nb$_{3.1}$ и Fe$_{77.5}$Si$_{13.5}$B$_9$”, Физика твердого тела, 2023, том 65, выпуск 1,страницы 35

Металлы

Поверхностная кристаллизация аморфных микропроводов состава Fe$_{73.8}$Si$_{13}$B$_{9.1}$Cu$_1$Nb$_{3.1}$ и Fe$_{77.5}$Si$_{13.5}$B$_9$

А. А. Фукс^ab, Г. Е. Абросимова^a, О. И. Аксенов^a, А. С. Аронин^a

^a Институт физики твердого тела имени Ю.А. Осипьяна Российской академии наук, Черноголовка, Россия
^b Национальный исследовательский университет "Высшая школа экономики", г. Москва

Аннотация: Изучены аморфные микропровода состава Fe$_{73.8}$Si$_{13}$B$_{9.1}$Cu$_1$Nb$_{3.1}$ и Fe$_{77.5}$Si$_{13.5}$B$_9$, изготовленные методом Улитовского–Тейлора. Образцы с удаленной стеклянной оболочкой подвергались термической обработке при температуре 753 и 703 K в течение 20 min, после чего их структура исследовалась с помощью рентгенографии. Образцы затем подвергались химическому травлению, и снова проводилось рентгенографическое исследование структуры. Экспериментальные результаты о преимущественной кристаллизации приповерхностных областей обсуждаются в предположении о влиянии механических напряжений на зарождение и рост нанокристаллов.

Ключевые слова: аморфные материалы, распределение напряжений, нанокристаллизация, рентгеновская дифракция.

Поступила в редакцию: 07.10.2022
Исправленный вариант: 07.10.2022
Принята в печать: 19.10.2022

DOI: 10.21883/FTT.2023.01.53919.494