RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика твердого тела // Архив

Физика твердого тела, 2024, том 66, выпуск 12, страницы 2095–2098 (Mi ftt10508)

Международная конференция ФизикА.СПб/2024
Физика поверхности, тонкие пленки

Сложное поведение кристаллизации и рост ориентированных слоев аморфных нанопленок MoTe$_2$ на подложках из переходных металлов

П. Н. Якушевa, В. А. Берштейнa, А. В. Колобовb

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт Петербург, Россия
b Российский государственный педагогический университет им. А. И. Герцена, Санкт Петербург, Россия

Аннотация: Дихалькогениды переходных металлов нашли широкое применение в различных областях электроники (спинтроника, оптоэлектроника, устройства памяти) в качестве двумерных полупроводников в виде тонких кристаллических пленок. Одним из методов их получения является кристаллизация в твердом состоянии из аморфной фазы на различных подложках. В данной работе измерения дифференциальной сканирующей калориметрии показали, что нанослои MoTe$_2$, осажденные на различные подложки (Ta, Al, W, Mo), находятся в различных структурных состояниях: аморфном, частично кристаллическом или полностью кристаллическом. Было обнаружено, что температуры стеклования, диапазоны кристаллизации и энтальпии различаются в зависимости от подложки. Это означает, что какова бы ни была причина наблюдаемых различий, результаты, полученные на одной подложке, не могут быть использованы при изменении материала подложки.

Ключевые слова: TDMCs (Монослои дихалькогенидов переходных металлов, ДПМ), кристаллизация, DSC (ДСК, дифференциальная сканирующая калориметрия).

Поступила в редакцию: 30.04.2024
Исправленный вариант: 28.10.2024
Принята в печать: 30.10.2024

DOI: 10.61011/FTT.2024.12.59568.6539PA



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026