RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика твердого тела // Архив

Физика твердого тела, 2024, том 66, выпуск 8, страницы 1338–1343 (Mi ftt10398)

Полупроводники

Влияние олова на свойства нитрида галлия, выращенного методом хлорид-гидридной газофазной эпитаксии

А. В. Осиповa, Ш. Ш. Шарофидиновb, Е. В. Осиповаa, А. В. Редьковc, С. А. Кукушкинc

a Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург, Россия
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
c Санкт-Петербургский государственный университет, Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Слой GaN $n$-типа, легированный оловом был выращен методом хлорид-гидридной газофазной эпитаксии (HVPE). Легирование оловом осуществлялось путем химической реакции с образованием SnCl$_2$ и его последующим распадом в присутствии NH$_3$. Показано, что легирование оловом приводит к исчезновению трещин и уменьшению шероховатости GaN. Исследованы оптические свойства GaN, легированного оловом. Показано, что в рамановском спектре GaN : Sn появляется толстая зона линий в области от 620 до 740 cm$^{-1}$, связанная с колебаниями связей Sn–N. Электроны проводимости, возникающие при легировании GaN оловом, поглощают свет в области 2.2–3.3 eV. Методом функционала плотности показано, что атомы Sn сильно взаимодействуют друг с другом в кристалле GaN анизотропным образом, определяя локальную группу симметрии легированного кристалла.

Ключевые слова: нитрид галлия, метод функционала плотности, хлорид-гидридная эпитаксия, ионный радиус, рамановский спектр.

Поступила в редакцию: 04.07.2024
Исправленный вариант: 04.07.2024
Принята в печать: 05.07.2024

DOI: 10.61011/FTT.2024.08.58598.177



© МИАН, 2026