Аннотация:
В рамках неортогональной модели сильной связи исследовано влияние равномерного растяжения двухслойного графена на процесс радиационного формирования межслоевых перемычек в этой структуре. Модельные расчеты показали, что растяжение двухслойного графена на 5% увеличивает в $\sim$ 2 раза суммарную вероятность образования дефектов всех типов. При этом показано, что от деформации не зависит доля структур с межслоевыми перемычками, которые обладают достаточной термической устойчивостью для долговременного существования при комнатной температуре. В деформированном и недеформированном двухслойном графене эта доля равна $\sim$ 15%. Одна из найденных устойчивых структур с межслоевой перемычкой является разновидностью пары Френкеля и обладает энергией активации отжига равной 2.11 eV. В более ранней работе при моделировании облучении недеформированного двухслойного графена в рамках аналогичной модели данный дефект не наблюдался.