Полупроводники
Ab initio расчет структуры и частотные зависимости диэлектрических свойств новых полупроводников TlIn$_{1-x}$Tm$_x$S$_2$ ($x$ = 0.001 и 0.005)
С. Н. Мустафаеваa,
С. М. Асадовbc,
С. С. Гусейноваad a Институт физики МНОA, Баку, Азербайджан
b Институт катализа и неорганической химии им. М.Ф. Hагиева МНОA,
Баку, Азербайджан
c НИИ "Геотехнологические проблемы нефти, газа и химия" АГУНП, Баку, Азербайджан
d Университет Хазар, Баку, Азербайджан
Аннотация:
Проведены исследования моноклинной структуры TlIn
$_{1-x}$Tm
$_x$S
$_2$ в рамках теории функционала плотности (DFT). Рассмотрены случаи замещения атомов индия тулием. Параметры элементарной ячейки определялись в оптимизированных суперъячейках TlInS
$_2$ с учетом приближения локальной плотности. На основе расчетов моноклинной структуры с пространственной группой
$C/2c$ (координационное число
$Z$ = 16, N 15) теоретически определены параметры решетки для слоистого кристалла TlIn
$_{1-x}$Tm
$_x$S
$_2$ и сопоставлены с экспериментальными результатами. В кварцевых ампулах были синтезированы новые полупроводниковые поликристаллы составов TlIn
$_{1-x}$Tm
$_x$S
$_2$ (
$x$ = 0, 0.001 и 0.005), из которых методом направленной кристаллизации выращены соответствующие монокристаллы. Анализ рентгеновских дифрактограмм показывает, что все составы TlIn
$_{1-x}$Tm
$_x$S
$_2$ имеют устойчивую моноклинную сингонию с пр. гр.
$C/2c$. Вычисленные параметры элементарной ячейки образцов TlIn
$_{1-x}$Tm
$_x$S
$_2$ подтверждают это. В монокристаллах изучены диэлектрические свойства в переменных электрических полях частотой
$f$ = 5
$\cdot$ 10
$^4$–3.5
$\cdot$ 10
$^7$ Hz при комнатной температуре. Установлены релаксационный характер диэлектрической проницаемости, природа диэлектрических потерь, а также прыжковый механизм переноса заряда в образцах TlIn
$_{1-x}$Tm
$_x$S
$_2$. С использованием модели Мотта рассчитаны параметры локализованных состояний в кристаллах образцов TlIn
$_{1-x}$Tm
$_x$S
$_2$. Показано, что по сравнению с нелегированным TlInS
$_2$ проводимость на переменном токе, плотность локализованных состояний вблизи уровня Ферми, среднее расстояние и время прыжков носителей заряда в TlIn
$_{1-x}$Tm
$_x$S
$_2$ увеличиваются.
Ключевые слова:
моноклинная структура, DFT LDA, монокристалл TlInS
$_2$, влияние легирования, примесь тулия, параметры элементарной ячейки, диэлектрическая проницаемость, прыжковая проводимость, частотная дисперсия, диэлектрические потери.
Поступила в редакцию: 03.02.2024
Исправленный вариант: 03.02.2024
Принята в печать: 04.02.2024
DOI:
10.61011/FTT.2024.04.57789.8