RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика твердого тела // Архив

Физика твердого тела, 2024, том 66, выпуск 2, страницы 206–212 (Mi ftt10233)

Полупроводники

Критическая толщина и напряжения слоев HgTe на подложках Hg$_x$Cd$_{1-x}$Te

С. А. Дворецкийa, Н. Н. Михайловa, Р. В. Меньщиковa, В. И. Окуловb, Т. Е. Говорковаb

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, Новосибирск, Россия
b Институт физики металлов им. М.Н. Михеева УрО РАН, Екатеринбург, Россия

Аннотация: Проведен расчет критической толщины псевдоморфного слоя и механических напряжений HgTe на подложках (013) Hg$_x$Cd$_{1-x}$Te при температурах роста 120, 150 и 180$^\circ$C для двух дислокационных систем скольжения. Установлено, что критическая толщина HgTe варьируется от 40–60 до 1200–1800 nm при изменении $x$ от 0 до 0.9. Механические напряжения, обусловленные несоответствием параметров решетки гетеропары HgTe/Hg$_x$Cd$_{1-x}$Te, изменяются в диапазоне от 6 до 125 MPa при изменении $x$ и слабо зависят от температуры. Механические напряжения при охлаждении, обусловленные несоответствием коэффициентов термического расширения, составили от -1 до -7 MPa. Эти результаты позволяют прогнозировать механические напряжения в различных приборных конструкциях на основе гетеропары Hg$_x$Cd$_{1-x}$Te.

Ключевые слова: критическая толщина, напряжения, состав, HgTe, Hg$_x$Cd$_{1-x}$Te, параметр решетки, коэффициент термического расширения.

Поступила в редакцию: 25.01.2024
Исправленный вариант: 25.01.2024
Принята в печать: 26.01.2024

DOI: 10.61011/FTT.2024.02.57244.9



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026