Формирование многослойной межфазной границы при термообработке контакта Pd-Si

П. Н. Крылов^a, А. Б. Федотов^b, И. В. Федотова<sup>a

a</sup> Удмуртский государственный университет, 426034, г. Ижевск, ул. Университетская, 1
^b Нижегородский государственный технический университет им. Р.Е. Алексеева, 603950, ГСП-41, Н. Новгород, ул. Минина, 28, корпус 5

Аннотация: Методом электронографии на отражение в сочетании с послойным химическим травлением исследована структура границы раздела Pd-Si, подвергнутой термообработке в интервале температур 330 - 870 К. Показано, что на границе раздела фаз образуется переходный слой (ПС), состоящий из аморфной области и прилегающей к ней области упругодеформированного кремния нанометровых толщин. Общая толщина ПС определяется температурой термообработки. Предложена модель трехфазной аморфизации.

Ключевые слова: граница раздела, термообработка, переходный слой, модель аморфизации.

УДК: 621.315.592