Аннотация:
В работе исследовано влияние имплантации ионов О$^+$ и N$^+$ в импульсно-периодическом режиме (f=100 Гц, t=1 мс) с энергией ионов 30 кэВ, плотностью тока в импульсе 3 мА/см$^2$ и дозами облучения 10$^{17}$ и $5\cdot10^{17}$ ион/см$^2$ на формирование состава наноразмерных поверхностных слоёв образцов армко-железа, нержавеющей стали Х18Н10Т и меди марки М0. Показано, что формирование наноразмерных поверхностных слоёв ионной имплантацией определяется не только процессами физической природы, всегда сопровождающими облучение, но и химической активностью имплантируемых ионов к компонентам сплава.