|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Экспериментально-теоретическое исследование процесса формирования системы кислородосодержащий преципитат–дислокационные петли в кремнии
Физика твердого тела, 53:3 (2011), 493–503
-
Влияние фазовых превращений на оптические и электрические свойства
эпитаксиальных гетероструктур In$_{0.53}$Ga$_{0.47}$As/InP
Физика и техника полупроводников, 25:6 (1991), 965–969
-
Особенности жидкофазной эпитаксии и электрофизических свойств
эпитаксиальных слоев In$_{0.53}$Ga$_{0.47}$As : Sb
Физика и техника полупроводников, 25:3 (1991), 475–478
-
Особенности фононного спектра эпитаксиальных слоев
In$_{x}$Ga$_{1-x}$As
Письма в ЖТФ, 17:7 (1991), 21–24
-
Влияние Yb на остаточные донорные и акцепторные примеси в GaP
Физика и техника полупроводников, 24:8 (1990), 1367–1370
-
Оптические свойства эпитаксиальных гетероструктур
AlGaAsSb/GaSb в инфракрасной области спектра
Физика и техника полупроводников, 24:5 (1990), 800–804
-
Формирование неоднородности состава кристаллов арсенида галлия,
обусловленной дислокациями
ЖТФ, 59:2 (1989), 106–110
-
Об аномалиях электрофизических свойств эпитаксиальных слоев
In$_{0.53}$Ga$_{0.47}$As и их природе
Физика и техника полупроводников, 23:7 (1989), 1177–1181
-
Об одной особенности донора — серы в GaP
Физика и техника полупроводников, 23:6 (1989), 1070–1075
-
Влияние термообработки на люминесцентные свойства эпитаксиальных
слоев GaAs, легированных Sn или Te
Физика и техника полупроводников, 23:3 (1989), 456–460
-
Поведение центров EL2 в монокристаллах полуизолирующего GaAs
при термообработках
Физика и техника полупроводников, 22:11 (1988), 2035–2038
-
Влияние легирующих примесей на формирование переходных слоев
в эпитаксиальных структурах арсенида галлия
Физика и техника полупроводников, 22:10 (1988), 1792–1795
-
Механизм формирования неоднородности в нелегированных монокристаллах
арсенида галлия, полученных методом Чохральского
Физика и техника полупроводников, 22:6 (1988), 1004–1010
-
Кинетика генерации низкотемпературных кислородных доноров в кремнии
с изовалентными примесями
Физика и техника полупроводников, 22:2 (1988), 307–312
-
Жидкостная эпитаксия, контролируемая изменением температуры и тока
(ЖЭКИТТ)
ЖТФ, 56:2 (1986), 353–360
-
Уширение полос поглощения водородоподобных центров в кремнии
с изовалентными примесями
Физика и техника полупроводников, 20:9 (1986), 1647–1653
-
Влияние термообработки на люминесцентные и электрофизические
параметры приповерхностных слоев монокристаллических пластин арсенида
галлия
Физика и техника полупроводников, 20:9 (1986), 1588–1593
-
О роли дислокаций в формировании свойств монокристаллов
полуизолирующего GaAs
Физика и техника полупроводников, 20:4 (1986), 634–640
-
Деформационные заряды изовалентных примесей в кремнии
Физика и техника полупроводников, 20:2 (1986), 270–274
-
О поведении кислорода в кремнии, легированном изовалентными
примесями
Физика и техника полупроводников, 19:11 (1985), 1982–1985
-
Определение рекомбинационной активности и глубины залегания
точечнообразных дефектов в кристаллах полупроводников методом наведенного
тока в растровом электронном микроскопе
Физика и техника полупроводников, 19:1 (1985), 38–43
-
Оптические свойства Ga$_{x}$In$_{1-x}$As$_{y}$Sb$_{1-y}$
Физика твердого тела, 26:1 (1984), 145–150
-
Низкопороговые инжекционные лазеры на основе зарощенных
гетероструктур
GaInPAs/InP (1.2$-$1.6 мкм)
ЖТФ, 54:3 (1984), 551–557
-
Исследование влияния условий наращивания гетероструктуры
Al$_{x}$Ga$_{1-x}$As$-$GaAs в системе МОС$-$AsH$_{3}{-}$H$_{2}$ на параметры
солнечных элементов (СЭ)
ЖТФ, 54:1 (1984), 187–189
-
Особенности дефектообразования в кремнии, содержащем изовалентную
примесь олова
Физика и техника полупроводников, 18:9 (1984), 1573–1576
-
Генерация термодоноров в кремнии, легированном германием
Физика и техника полупроводников, 18:7 (1984), 1309–1311
-
Комплексообразование и термостабильность электрофизических свойств монокристаллов полуизолирующего GaAs
Физика и техника полупроводников, 18:3 (1984), 465–470
-
Особенности дефектообразования в полупроводниках
при изовалентном легировании
Физика и техника полупроводников, 17:11 (1983), 2022–2024
-
Фотолюминесценция твердых растворов
GaAs$_{1-x}$Sb$_{x}$ И Ga$_{1-x}$In$_{x}$As (${x< 0.01}$)
Физика и техника полупроводников, 17:1 (1983), 108–114
-
Исследование собственных точечных дефектов структуры в монокристаллах
арсенида галлия методом ядерного магнитного резонанса
Физика и техника полупроводников, 17:1 (1983), 93–96
-
Гетеролазеры $GaInPAs/InP$ на основе зарощенной мезаполосковой структуры, работающие в непрерывном режиме при комнатной температуре на длине волны 1,24-1,28 мкм
Квантовая электроника, 7:9 (1980), 1990–1992
-
Высокоэффективные светодиоды на основе GalnPAs/lnP
Квантовая электроника, 5:11 (1978), 2488–2489
-
Инжекционный гетеролазер на основе четырехкомпонентного твердого раствора InGaAsSb
Квантовая электроника, 5:3 (1978), 703–704
-
Эффективная генерация полупроводникового лазера на основе Gaxln1–xAsySb1–y в спектральном диапазоне 1,8–2,4 мкм при комнатной температуре
Квантовая электроника, 5:1 (1978), 126–128
-
Многокомпонентные полупроводниковые твердые растворы и их применение в лазерах (обзор)
Квантовая электроника, 3:7 (1976), 1381–1393
-
Люминесценция и лазерный эффект в Gaxln1–xAsySb1–y
Квантовая электроника, 3:4 (1976), 932–934
-
Новый неохлаждаемый инжекционный гетеролазер в диапазоне 1,5–1,8 мкм
Квантовая электроника, 3:2 (1976), 465–466
-
Образование дислокаций в совершенных монокристаллах под действием напряжений
Докл. АН СССР, 207:5 (1972), 1109–1111
-
О влиянии легирующих примесей на анизотропию пластической деформации монокристаллов $\mathrm{GaAs}$
Докл. АН СССР, 184:5 (1969), 1084–1087
-
О форме нахождения примесей в сильнолегированных монокристаллах германия и кремния $n$-типа
Докл. АН СССР, 149:5 (1963), 1119–1122
© , 2026