|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
InGaAs фотодиод с пониженным темновым током на диапазон 1.17–1.29 мкм с дискретным метаморфным буферным слоем
Физика и техника полупроводников, 57:6 (2023), 495–500
-
Исследование влияния оптического излучения на резистивное переключение МДП-структур на основе ZrO$_2$(Y) на подложках Si(001) с наноостровками Ge
Физика и техника полупроводников, 56:8 (2022), 723–727
-
Модификация структурно-морфологических свойств германия в многослойной нанопериодической структуре Al$_{2}$O$_{3}$/Ge с промежуточными слоями Si при отжиге
Физика и техника полупроводников, 55:10 (2021), 882–889
-
Влияние оптического излучения на резистивное переключение в МДП-структурах на основе пленок ZrO$_{2}$(Y) с наночастицами Au
Физика и техника полупроводников, 55:9 (2021), 754–757
-
Электрические и фотоэлектрические свойства многослойных наноструктур $\alpha$-Si/SiO$_{2}$ и $\alpha$-Ge/SiO$_{2}$ на подложках $p$-Si, отожженных при разных температурах
Физика и техника полупроводников, 54:10 (2020), 1112–1116
-
Квантовые точки “ядро–оболочка” Ge/Si в матрице оксида алюминия: влияние температуры отжига на оптические свойства
Физика и техника полупроводников, 54:2 (2020), 129–137
-
Химический и фазовый состав многослойных нанопериодических структур $a$-SiO$_{x}$/ZrO$_{2}$, подвергнутых высокотемпературному отжигу
Физика твердого тела, 59:6 (2017), 1183–1191
-
Влияние температуры осаждения и отжига на люминесценцию германиевых нанокристаллов, сформированных в пленках GeO$_{x}$ и многослойных структурах Ge/SiO$_{2}$
Физика твердого тела, 59:5 (2017), 965–971
-
Формирование нанокристаллов кремния в многослойных нанопериодических структурах $a$-SiO$_{x}$/диэлектрик по результатам синхротронных исследований
Физика и техника полупроводников, 51:3 (2017), 363–366
-
Метод уменьшения ширины диаграммы направленности InGaAs/GaAs/AlGaAs многоямного гетеролазера
Физика и техника полупроводников, 50:11 (2016), 1509–1512
-
Формирование нанокристаллов кремния в многослойных нанопериодических структурах Al$_2$O$_3$/SiO$_x$/Al$_2$O$_3$/ SiO$_x$/$\dots$/Si(100) по данным синхротронных исследований и фотолюминесценции
Физика и техника полупроводников, 49:3 (2015), 421–425
-
Эволюция структурно-морфологических свойств при отжиге многослойной нанопериодической системы SiO$_x$/ZrO$_2$, содержащей нанокластеры кремния
Физика и техника полупроводников, 48:1 (2014), 44–48
-
Синхротронные исследования формирования нанокластеров кремния в многослойных наноструктурах
Al$_2$O$_3$/SiO$_x$/Al$_2$O$_3$/SiO$_x$/$\dots$/Si(100)
Физика и техника полупроводников, 47:10 (2013), 1327–1334
-
Термическая эволюция морфологии, структуры и оптических свойств многослойных нанопериодических систем, полученных путем вакуумного испарения SiO и SiO$_2$
Физика и техника полупроводников, 47:4 (2013), 460–465
-
Химический и фазовый состав пленок оксида кремния с нанокластерами, полученными путем ионной имплантации углерода
Физика твердого тела, 54:2 (2012), 370–377
-
Особенности формирования и свойства светоизлучающих структур на основе ионно-синтезированных нанокристаллов кремния в матрицах SiO$_2$ и Al$_2$O$_3$
Физика твердого тела, 54:2 (2012), 347–359
-
Эволюция оптических свойств при отжиге многослойной нанопериодической системы SiO$_x$/ZrO$_2$, содержащей нанокластеры кремния
Физика и техника полупроводников, 45:6 (2011), 747–753
-
Морфология, электронная структура и оптические свойства самоформирующихся кремниевых наноструктур на поверхности высокоориентированного пиролитического графита
Физика и техника полупроводников, 45:1 (2011), 57–61
-
Формирование и “белая” фотолюминесценция нанокластеров в пленках SiO$_x$, имплантированных ионами углерода
Физика и техника полупроводников, 44:11 (2010), 1498–1503
-
Полупроводниковые лазеры на длину волны 980 нмс широкими туннельно-связанными волноводами
Квантовая электроника, 26:3 (1999), 217–218
-
Полупроводниковые лазеры на длину волны 0.98 мкмс выходом излучения через подложку
Квантовая электроника, 25:7 (1998), 622–624
-
Электрические и оптические свойства полупроводника
$a$-Si$_{1-x}$Ge$_{x}$
Физика и техника полупроводников, 20:7 (1986), 1288–1291
© , 2026